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更新日期：2024-03-23
簡(jiǎn)要描述：
日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3Transpector XPR3 是基于四極桿的下一代高壓過程監(jiān)測(cè)器。 盡管外觀緊湊（總長(zhǎng)度 237 mm），但它可以在從 2.6 Pa 到高真空的寬范圍內(nèi)使用。 不需要大型復(fù)雜的差速排氣裝置。
| 品牌 | 其他品牌 | 儀器種類 | 在線式 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3
Transpector XPR3 是基于四極桿的下一代高壓過程監(jiān)測(cè)器。 盡管外觀緊湊（總長(zhǎng)度 237 mm），但它可以在從 2.6 Pa 到高真空的寬范圍內(nèi)使用。 不需要大型復(fù)雜的差速排氣裝置。
特點(diǎn)
●重新設(shè)計(jì)的離子源減少了污染物的影響，延長(zhǎng)了使用壽命，并提供清晰的信號(hào)來自雙離子源的一個(gè)離子流被送入四極桿過濾器進(jìn)行分壓測(cè)量，另一個(gè)離子流被發(fā)送到全壓收集器。 這使得連續(xù)的總壓力測(cè)量具有比離子堿更高的精度。 這改善了高壓范圍內(nèi)的靈敏度損失，并以1.1 Pa為單位實(shí)現(xiàn)了測(cè)量精度。
●在PVD工藝壓力下運(yùn)行的新型EM（二次電子倍增管）可實(shí)現(xiàn)快速干凈的數(shù)據(jù)收集，并且無需從FC更改為EM而便于數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換
●新型擴(kuò)展四極桿提高了低質(zhì)量范圍內(nèi)的過濾性能和豐度靈敏度，以及氫氣檢測(cè)靈敏度
應(yīng)用實(shí)例
?PVD工藝模塊
?預(yù)清洗模塊
?脫氣模塊
雙離子源經(jīng)過改進(jìn)，可最大限度地減少污染物的影響，從而延長(zhǎng)離子源的使用壽命。
來自該雙離子源的離子流之一被送入四極桿過濾器進(jìn)行分壓測(cè)量，另一個(gè)離子流被發(fā)送到全壓收集器。 這允許以比離子計(jì)更高的精度連續(xù)測(cè)量總壓力。
日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3
| 質(zhì)量范圍 | 1~100（阿姆） |
|---|---|
| 分辨率 | < 1@10%，在質(zhì)量 4、20、28、40 下測(cè)量（根據(jù) 1993 年 AVS 建議） |
| 質(zhì)量過濾器類型 | 四極桿 |
| 探測(cè)器類型 | 離軸 FC 和微通道板 EM |
| 溫度系數(shù) | <1% / 1°C 作為峰高（在 FC 信號(hào) Ar 1.3E-2Pa 時(shí)） |
| 質(zhì)量峰穩(wěn)定性 | 24小時(shí)內(nèi)<0.1amu （FC信號(hào)Ar 1.3E-2Pa，STP常數(shù)） |
| 質(zhì)量峰比穩(wěn)定性 | 24小時(shí)內(nèi)<2%（2/40，4/40，20/40，28/40） |
| 靈敏度（標(biāo)稱） | FC@40eV/200μA：≧3E-9安培/帕 EM@40eV/200μA：≧3E-5安培/帕 |
| 最小檢測(cè)分壓 | FC@40eV/200μA：≧3E-7Pa EM@40eV/200μA：≧8E-10Pa |
| 最大工作壓力 | 光纖通道或電磁程：2.6Pa（線性操作：1.3Pa） |
| 傳感器最高工作溫度（最高烘烤溫度 ） | 150°C（200°C：去除浮渣） |
| PPM 檢測(cè)限值 | 10ppm（@0.13~0.65Pa工藝壓力） |
| 工作溫度 | 20~50°C |
| 輸入功率 | 20~30VDC，9針D型連接器（公頭），內(nèi)部與系統(tǒng)接地隔離 |
| RS232串行通訊接口 | 非隔離，波特率 1200~9600 波特，9 針 D 連接器（母頭） |
| RS485 通信接口 （可尋址） | 隔離，固定波特率 （57，600），半雙工，固定地址 1~31，9 針 D 連接器（母頭） |
| 繼電器輸出 | 4個(gè)系統(tǒng)，24V-0.5A（工作狀態(tài)×1，極限設(shè)定點(diǎn)×3） |
| 輸入 | 2路非隔離×TTL輸入，2路觸點(diǎn)輸入，0路差分模擬×輸入，10~<>VDC |
