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日本tekhne露點儀在半導體芯片生產中的應用
測量氣體中的水蒸氣露點溫度的儀器叫做露點儀。
露點儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同, 可以分為多種類型。這里只介紹熱電制冷自動檢測露層的平衡式精密露點儀在半導體芯片生產中的應用。
露點儀在半導體芯片的生產工藝中起重要監(jiān)測作用。半導體芯片的生產是在凈化間內進行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度 (RH) 這一項, 一年內控制點的范圍從35%到65%, 精度2% (70℃以下) 濕度超標會影響產品質量及生產計劃的完成。
在半導體芯片生產區(qū), 濕度不穩(wěn)定, 會出現很多問題。典型的問題是烘干期延長, 整個處理過程變得難以控制。當相對濕度高于35%時, 元件易被腐蝕。此外, 將顯影液噴在芯片表面時, 顯影液迅速揮發(fā), 使芯片表面溫度下降, 致使水汽凝結在芯片表面。凝結水不但會影響顯影特性, 還會吸收到半導體內, 這將導致膨化及其它質量缺陷, 還必須增加一些不必要的工藝控制。
凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調節(jié)空氣, 另一種是除濕劑。采用第一種方法時, 將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點以下。除去析出的冷凝水, 將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后, 重新送回凈化間。標準冷凍機可保證露點達到+4℃;采用第二種方法時, 氣流通過吸濕劑, 吸濕劑直接吸收氣流中的水分, 然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點低于-18℃。另外, 半導體芯片需在化學氣相沉積外延反應爐中加工, 將一層穩(wěn)定的單晶硅膜沉積在芯片上。在加工過程中反應爐中的水氣和氧氣會污染沉積膜而降低產量。
反應爐工作氣壓范圍從高真空度到大氣壓, 可在約344kPa壓力下預凈化處理。該工藝所需的氣體包括:胂化氫、磷化氫、氫、氮和氬等。膜沉積工藝質量取決于對氣體混合及質量流量的控制。產量取決于濕度的控制精度。也就是說, 濕度及氧的測量, 對設計嚴格的氣體混合規(guī)范十分重要, 整個工藝過程離不開熱電制冷自動檢測露層的平衡式精密露點儀的監(jiān)測。
日本tekhne達到國內高質量和低價格的新世界標準露點儀TK-100
特征
主要用途
高品質家用露點儀
過去40年來，Techne Measurement Co.，Ltd.一直在使用以露點計為中心的濕度管理和測量設備。電容式（阻抗式）露點計TK-100系列是Techne Measurement Co.，Ltd.的主要產品。
TK-100在線露點儀是一套TK-100變送器，監(jiān)視器和傳感器電纜，因此您可以輕松地開始測量露點。
達到易于引入的價格范圍
通過執(zhí)行日本制造，生產線和校準的所有過程，我們將質量放在*，并以易于引入所有客戶現場條件的價格范圍全面追求該產品。 ..
同時，我們建立了交貨時間短的運輸系統。
引進先進的中心技術
TK-100在線露點儀的傳感器是通過反映我們在新的陶瓷傳感器技術上積累的大量數據而制成的。每個傳感器的特性都記錄在變送器中，溫度由傳感器溫度計補償以測量傳感器輸出，并且露點值線性輸出。這使得每個傳感器*兼容。
采樣
對TK-100進行采樣非常容易。
直接安裝在管道或測量環(huán)境中，或者如果可以繞過，則安裝過濾器，傳感器塊和流量計以進行采樣。這些也可以作為“入門工具包”的選件購買。
